2噸每小時(shí)的反滲透純水設(shè)備
產(chǎn)品介紹
反滲透純水設(shè)備用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。都應(yīng)該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設(shè)備采用雙級(jí)反滲透技術(shù)與純化、技術(shù)相結(jié)合，出水水質(zhì)達(dá)到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)。
工藝設(shè)計(jì)
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→精密過濾器→用水對(duì)象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線器→精密過濾器→用水對(duì)象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設(shè)備特點(diǎn)
1.采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運(yùn)行。
2.無需酸堿處理，環(huán)保無“三廢”。
3.自動(dòng)控制，自動(dòng)維護(hù)，水質(zhì)在線檢測(cè)，隨時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化。
4.切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，滿足需求。
5.全自動(dòng)控制系統(tǒng)，日常操作為簡(jiǎn)便，系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行沖洗維護(hù)，制取產(chǎn)品水過程不需要手工操作。
6.雙流路設(shè)計(jì)，不但可以制造超純水，還生產(chǎn)純水，方便用戶實(shí)驗(yàn)室的不同級(jí)別用水要求。
7.預(yù)留了升級(jí)空間?？梢愿鶕?jù)用戶需要輕松實(shí)現(xiàn)功能升級(jí)。
技術(shù)參數(shù)
電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。



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